为提升表面性能，常采用机械抛光、化学抛光和电化学抛光等工艺。

1、机械抛光

通过研磨工具与磨料对表面进行切削与整平，常用砂纸、油石条或抛光轮配合研磨膏进行。

工艺分为粗抛、半精抛与精抛三阶段，可实现Ra0.08μm的高精度表面。

该法设备简单、适应性强，但依赖操作技术，易产生划痕或“橘皮”缺陷。

2、化学抛光

利用酸性溶液选择性溶解表面凸起部分，实现微观整平。

无需复杂设备，适用于结构复杂的容器。

但表面粗糙度一般为数10μm，且存在废液处理难题，需严格控制温度与时间。

3、电化学抛光

结合了电化学与机械作用，在直流电源下通过电解液实现阳极溶解，使表面微观凸起优先去除，获得高光洁度。

其抛光均匀性好，可批量处理，表面粗糙度可达Ra＜1μm，且能改善材料耐蚀性，成为工业化主流工艺。

抛光后应依据《金属抛光表面质量检测及评判规则》（HG/T4079）进行验收，从表面粗糙度、光泽度及缺陷等方面综合评判。

咨询抛光机：159 1097 4236

三种工艺各有优劣，应结合容器用途、成本与精度要求合理选用，以实现性能与效益的最优平衡。