环境控制的样品制备离子束制备
最先进的离子铣削和抛光系统，可提供可靠的高性能标本准备。它是紧凑的，精确的，并且始终如一地产生高质量的透射电子显微镜标本，具有各种材料的大电子透明区域。
MODEL 1051TEM 铣磨机
这是一款先进的离子铣削和抛光系统，提供可靠、高性能的样品制备。它能够从多种材料中 consistently 制备出高质量的透射电子显微镜（TEM）样品，并具有大面积的电子透明区域。
Model 1051 TEM Mill 技术规格
离子源
两个 TrueFocus 离子源
可变能量操作（100 eV 至 10 kV）
束流密度高达 10 mA/cm²
可选择单离子源或双离子源操作
独立的离子源能量控制
手动或电动（可选）离子源角度调节
可调节的束斑尺寸
每个离子源配备法拉第杯，用于直接测量束流，支持针对特定应用优化和调整离子源参数
样品夹持器
设计用于改进样品处理和热性能，包括装载站
夹持机制简化了样品装载，并支持双面铣削至无阴影
样品夹持器和装载站具备 x-y 调节功能（可选）
样品台
样品尺寸：直径 3 mm，厚度 250 µm
360度 样品旋转，支持可变转速和束流序列
样品摇摆功能
磁编码器提供绝对定位精度
MODEL 1051 TEM Mill
这是一款先进的离子铣削和抛光系统，提供可靠、高性能的样品制备。它能够从多种材料中 consistently 制备出高质量的透射电子显微镜（TEM）样品，并具有大面积的电子透明区域。
咨询电话：13522079385
样品冷却（可选）
液氮传导冷却，配备集成杜瓦瓶和自动温度联锁
杜瓦瓶靠近仪器操作员，便于操作
可编程并维持从环境温度到低温的特定温度
可选：
标准杜瓦瓶容量（3 至 5 小时低温条件）
扩展杜瓦瓶容量（12 小时以上低温条件）
自动终止
通过时间、温度或激光光电探测器（可选）自动终止
真空系统
涡轮分子拖曳泵和无油多级隔膜泵
配备冷阴极全量程真空计进行真空检测
真空或惰性气体传输胶囊（可选），支持在真空或惰性气体环境中传输或存储样品
工艺气体
超高纯氩气（99.999%）；标称输送压力为 15 psi
使用两个质量流量控制器实现自动气体控制
用户界面
通过 10 英寸可调节触摸屏控制仪器操作
堆栈灯指示器（可选），用于远程确定铣削操作状态
显微镜（可选）
装载锁窗口可容纳以下设备：
7 至 45 倍立体显微镜附件，用于直接观察样品
1,960 倍高倍显微镜和 CMOS（互补金属氧化物半导体）相机系统，用于特定位置的图像采集和显示
原位观察/成像
使用立体显微镜或高倍显微镜时，可在铣削位置原位监测样品
观察窗口配备可编程快门，防止溅射材料堆积，保持原位观察能力