全球最高精度3D打印设备制造商
Nanoscribe成立于2007年，总部位于德国卡尔斯鲁厄，拥有卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）的技术背景和卡尔蔡司公司的支持。经过十几年的不断研究和成长，Nanoscribe已成为微纳米生产的先驱和3D打印市场的领导者，推动着诸如力学超材料，微纳机器人，再生医学工程，微光学等创新领域的研究和发展，并提供优化制程方案。
Nanoscribe将年营业额的25%投入到未来的微纳制造技术的研发。因此，我们得以为客户提供快捷可行的解决方案，并鼓舞了我们的客户去产生和尝试突破性的想法。
我们在全球拥有超过70位高素质的员工，致力于Nanoscribe双光子聚合技术的研发制造与售后服务事业。我们提供整套硬件，软件，打印材料和工艺技术一站式服务，以协助用户实现复杂三维微纳米结构加工的需求。
遍布全球30多个国家，超过2000名用户正在使用我们的产品。包括多所全球前十顶尖大学，例如哈佛大学，斯坦福大学，加州理工学院，牛津大学，伦敦帝国理工学院，苏黎世联邦理工学院等等。
1、微纳Quantum X型3D打印机
全新的Quantum X无掩模光刻系统能够数字化制造高精度2维和2.5维光学元件。 作为世界上第一个双光子灰度光刻系统，在充分满足设计自由的同时，一步制造具有光学质量表面以及高形状精度要求的微光学元件，达到所见即所得。
亚微米级的分辨率
彻底和快速的控制体素大小
全自动化的打印流程
高级人机交互支持
广泛的基板-树脂组合选择
Quantum X
Nanoscribe的Quantum X是全球首创双光子灰度无掩模光刻系统，适用于制造微光学衍射以及折射元件。
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体验全新Quantum X
全新的Nanoscribe Quantum X系统适用于工业生产中所需手板和模具的定制化精细加工。该无掩模光刻系统颠覆了自由形状的微透镜、微透镜阵列和多级衍射光学元件的传统制作工艺。
全球首个双光子灰度光刻(2GL®)系统将具有卓越性能的灰度光刻与Nanoscribe精确灵动的双光子聚合技术结合起来。
Quantum X提供了完全的设计自由度、高速的打印效率、以及增材制造复杂结构超光滑表面所需的高精度。快速、准确的增材制造工艺极大地缩短了设计迭代周期，实现了低成本的微纳加工。
凭借着独有的产品优势Nanoscribe 新发布的Quantum X在2019慕尼黑光博会展（LASER World of Photonics 2019）荣获创新奖。
双光子灰度光刻技术
这项突破性的技术将微纳增材制造和超高速体素大小调节结合在一起：双光子灰度光刻(2GL)是一种前所未有的具有超高速、超精确的可以满足自由形态的微加工技术，同时又不影响速度和精度。
Quantum X通过实时调制激光功率的技术在扫描平面上控制体素的大小。通过这种方式，具有复杂几何形状的结构可以被制造出来，同一物体中跨尺度的细节能够实现一步打印。无论是离散的，还是连续的复杂结构均可以在最大可达6英寸的晶圆片基板上精细打印，而不需要额外的光刻步骤或掩模制造。
Quantum X向导将指导您创建打印作业。原生的加工软件可接受高达32位位深的灰度图像，可使用2GL技术直接进行打印。二维和2.5维的衍射和折射微光学具有光学质量表面和高形状精度。
为卓越的光学质量做好准备
双光子灰度光刻（2GL®）的原理是利用激光束和高速振镜的高频同步来进行单体素调谐，从而在光学质量方面实现出色的微纳加工特征和结构:
2GL技术应用于无缝结构拼接
Quantum X 系统的高精度定位组件和自校准程序可以实现拼接相邻的打印区域，在制造更大结构的同时保证出色的打印精度。2GL技术能够在打印场边界动态调整激光剂量，以补偿化学诱导的光敏聚合物收缩和定位缺陷。结合这些组合功能，可以实现在几平方厘米的区域内打印真正的无缝结构，消除所有拼接痕迹。
对光滑结构表面进行倾斜补偿
Quantum X设备应用自动界面查找器以纳米精度检衬底表面，并将结构可靠地锚定在表面上。它通过在紧密的点网格上操作自动对焦来测量衬底倾斜度，而衬底的倾斜度是通过在载物台上下移动时处理专用信号来确定的。通过将2GL技术与自动倾斜补偿结合使用来平衡各个打印模块之间的偏差，在实现光滑的结构表面的同时避免在倾斜的衬底上有拼接缝隙或阶梯效应。
检查可行性
2GL打印技术带来的新机遇
数据解读 Quantum X
关键特性：
高速2.5维微打印速度
光学 质量表面和超高形状精度
亚微米级别分辨率打印设计自由
彻底地和超快速地控制体素大小
自动化的打印流程，例如校正、打印和实时监控
广泛的基材-树脂组合选择
按任务顺序连续进行打印
可触摸屏和远程电脑操控
Michael Thiel博士，Nanoscribe (CSO)的首席科学官兼联合创始人
应用：
为工业应用而生
折射微光学元件-单个透镜或透镜阵列
多层衍射光学元件 - 多达256个分立的或准连续的分层
2.5维微光学快速手板成型制作
批量制作微光学元件制作所需的聚合物母版
小批量生产
整片晶圆制造
技术参数：
打印技术 双光子灰度光刻(2GL)
三维横向特征尺度 160 nm 一般; 200 nm 定义*
二维横向分辨率 400 nm 一般; 500 nm 定义*
最佳竖直方向步长 10 nm, 形状达到准连续级别*
最小表面粗糙度 Ra ≤ 10 nm*
激光扫描速度 from 100 to 625 mm/s*
面积扫描速度 3 mm²/h (打印衍射光学元件时的速度）*
* 机器能达到的最佳性能依赖于物镜的选择和所用光刻胶。
Beer定律揭示了今天的无掩模光刻设备面临的难题。Quantum X使用的是双光子灰度光刻技术，它克服了这些难题，提供了前所未有的设计自由度和易用性。我们的客户正在从事最前沿的微纳加工。
高效率的微纳3D打印
使用Quantum X无掩模光刻工艺为用户提供了灵活性和直接性。强大的光刻工艺，特制的材料和最先进的软件架构使Quantum X成为高效的微纳制造设备。Nanoscribe的无掩模光刻工艺允许选择多种基板材料，在使用Nanoscribe的IP系列光刻胶时，无须匀胶、无须预热、无须后烘，也不需要制作昂贵的掩模版。
Quantum X软件实时控制和监视打印作业，实时进行全自动校准。该控制系统在几个纳秒内精准地将激光功率调制和曝光定位同步起来，实现了灰度光刻中完全的体素大小实时调制。
绘图界面和远程用户操作界面，包括位于打印机上的触摸屏在内，进一步支持人机交互。用户可以实时查看打印作业状态、调整流程控制和实施监视打印。
的光刻材料
2、微纳Photonic Professional GT2型3D打印机
咨询电话：135 2207 9385
Photonic Professional GT2是全球最高精度的3D微纳打印机。该设备将双光子聚合的极高精度技术特点与跨尺度的微观3D打印完美结合，适合用于纳米、微米、中尺度以及厘米级别的快速成型。
高速三维微纳制造
横向特征尺度一般能够达到160nm以下
满足三维设计自由
一步成型的3D打印流程
打印物件体积可达100mm³
兼顾微观和宏观的高精度3D无掩模光刻
Photonic Professional GT2
Nanoscribe Photonic Professional GT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状：晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。
Photonic Professional GT2 结合了设计的灵活性和操控的简洁性，以及广泛的材料-基板选择。因此，它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备，适用于多用户共享平台和研究实验室。
Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中，超过1,400个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的最好证明。
数据解读
Photonic Professional GT2
关键特性：
振镜扫描技术进行高速三维微加工，节省加工时间
亚微米级别加工精度,完全自由的结构设计
简洁的3D无掩模光刻工作流程,从CAD模型导入到加工产品仅需一步
适用于多种尺度和多种应用领域
广泛的基材-树脂组合选择
应用：
为科学研究和工业手板定制而生
微流体
微型机械
生物医学工程
MEMS
力学超材料
光子晶体
微光学
纳米材料
技术参数：
无掩模光刻技术 逐层双光子光固化
三维最小横向特征尺度 160 nm (一般)；200 nm (定义)*
二维横向分辨率 400 nm (一般)；500 nm (定义)*
最佳纵向分辨率 1,000 nm (一般)；1,500 nm (定义)*
层厚 variable, 0.1 – 5.0 µm*
普通样品的最大高度 8 mm*
最大加工体积 100 × 100 × 8 mm³ *
最佳平面粗糙度 Ra ≤ 20 nm*
扫描速度 from 100 to 625 mm/s*
Dynamic Precision Printing modes
优化速度确保高精度
为了实现高速打印并获得出色微纳加工效果，我们所有的动态高精度打印模式（Dynamic Precision Printing modes ，DPP）都能做到精准调整。使用DeScribe，我们的打印制备软件，能实现自定义模式以满足您的设计要求的特定需求。
五种DDP模式的简要介绍：
Solid mode 该模式下能实现高精度，轮廓质量和形状精度的器件。
Shell/scaffold mode 该模式只需打印实心结构的外壳和内部支架，同时保证高轮廓质量和形状精度，打印速度可提高5倍。
Pure shell 该模式下能打印干净清晰的轮廓，打印速度提升7倍。
Swift mode 作为DPP模式的“短跑运动员”，该模式下打印速度可以提升10倍，同时满足高质量要求，适合多种不同应用。
Balanced swift mode 该模式在显著提升精度的同时可以提升6倍打印速度。
从Photonic Professional GT2多功能性中获得设计灵感
增材制造革命性的重新定义了物件的生产制造方式。在微纳米尺度上，基于双光子聚合技术的增材制造手段加工精度极高，几乎可以满足任何形状物件的3D加工。无论结构的简单还是复杂，该自动化三维无掩模光刻工艺均可做到所需器件的一步加工成型，甚至对于复杂的生物器官组织的加工也是如此，真正做到了所见即所得。
该视频展示了一系列3D无掩模光刻的微观物体。扫描电子显微镜(SEM)拍摄下的图像序列从不同角度显示出最精细的细节。可加工结构的多样化是Photonic Professional GT2系统加工能力最好的证明。通过该视频，各种基本几何形状在微纳米尺度上的通过增材制造技术来实现的可能性得到了演示。